Physical Vapor Deposition (PVD) er en teknologi der et materiale fordampes og kondenseres for å danne et tynt filmbelegg på et objekt (underlag). Fordampning i PVD kan tvinges frem ved flere metoder. Metoden vi bruker er magnetron sputtering, der belegningsmaterialet "sprenges" med plasma. Alle PVD-prosesser utføres under vakuum.

Vi bruker for tiden aluminium til belegg, men et bredt spekter av belegg av både metaller eller keramikk er mulig med justering av maskinene. For eksempel nitrider, karbider og oksider kan brukes. Den meget fleksible PVD-metoden gjør at tykkelsene på beleggene kan justeres, avhengig av bruksområde og type del det er snakk om. Tykkelser fra noen få atomlag opp til omtrent 10 um er mulig med PVD, men i vår Lean PVD-prosess kjører vi typisk tykkelser på 0,12-0,2 um. Beleggene kan optimaliseres for forskjellige egenskaper som elektrisk, mekanisk, optisk og dekorativ.

Underlaget trenger ikke å være metallisk eller elektrisk ledende, noe som gjør det mulig å belegge ikke-metalliske isolatorer, plast- og keramiske gjenstander.

Bruken av PVD øker raskt i andre bransjer for å erstatte mindre miljøvennlige metoder som for eksempel kjemiske og galvaniske metoder.